本学大学院生が国際会議でBest Poster Awardを受賞
更新日： 2013年07月18日
本学大学院生が7月10日から12日にかけて京都リサーチパークで開催された国際会議The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Process (ISSP 2013)においてThe Best Poster Awardを受賞しました。
| 受賞題目 : | In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structures by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen |
| 受賞者 : | 諏訪東京理科大学大学院 博士前期課程１年 梁池 昂生 |
| 受賞日 : | 2013年7月12日 |